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Realizza una base impeccabile con Clinique Even Better fondotinta SPF15, una formulazione arrichita con minerali dalla copertura modulabile da media a totale, ideata per ottenere un incarnato omogeneo.
La sua formula priva di oli sublima e illumina l'incarnato nascondendo l'iperpigmentazione e uniformando la trama della pelle, garantendo risultati immediati e a lungo termine. La protezione dai raggi UV aiuta a prevenire la formazione di ulteriori danni e macchie cutanee, mentre la formula corregge le imperfezioni per creare una base impeccabile.
Ideale per le pelli miste.
Senza oli.
- Per risultati ottimali, applicare dopo il sistema in 3 fasi.
- Applicare con un pennello da fondotinta partendo dal centro del viso per sfumare verso l'esterno.
- Rimuovere con il proprio struccante preferito di Clinique.
Water\Aqua\Eau, Methyl Trimethicone, Phenyl Trimethicone, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Triethylhexanoin, Dimethicone, Butylene Glycol, Titanium Dioxide, Zinc Oxide (Nano), Trimethylsiloxysilicate, Peg-10 Dimethicone, Lauryl Peg-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone, Citrus Grandis (Grapefruit) Peel Extract, Betula Alba (Birch) Bark Extract, Saccharomyces Lysate Extract, Astrocaryum Murumuru Seed Butter, C12-15 Alkyl Benzoate, Yeast Extract\Faex\Extrait De Levure, Glycerin, Acetyl Glucosamine, Caprylyl Methicone, Methicone, Stearic Acid, Polyglyceryl-6 Polyricinoleate, Disteardimonium Hectorite, Dimethicone Crosspolymer-3, Isopropyl Titanium Triisostearate, Lecithin, Laureth-7, Tocopheryl Acetate, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Dimethicone/Peg-10/15 Crosspolymer, Dipropylene Glycol, Aluminum Hydroxide, Tetrahexyldecyl Ascorbate, Caprylyl Glycol, Sodium Chloride, Disodium Edta, Phenoxyethanol, [+/- Titanium Dioxide (Ci 77891), Iron Oxides (Ci 77491), Iron Oxides (Ci 77492), Iron Oxides (Ci 77499), Mica, Bismuth Oxychloride (Ci 77163)].
For the latest information, it is recommended to review the ingredient list printed on the packaging of the product prior to usage or consumption.
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Clinique Even Better Makeup SPF15 30 ml
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